硅片调焦调平测量系统测试平台

• 作者: 李小平 李志丹 肖可云 金小兵 陈飞彪
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 调焦调平 光刻机 激光干涉仪
• 年，卷（期）: 2006,（10）
• 所属期刊栏目: 测试与测量
• 页码范围: 53-56,60
• 页数: 5页
• 分类号: TN3
• 字数: 2583字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2006.10.013

摘要

硅片调焦调平测量系统测试平台用于对光刻机硅片调焦调平测量系统的性能进行检测.该平台模拟硅片调焦调平测量系统在光刻机中的测量对象的运动和工作环境,由三自由度运动台吸附硅片模拟光刻机工件台的垂向运动,采用比较激光干涉仪和硅片调焦调平测量系统同时对硅片测量的结果作为其性能的评估依据.该平台测量精确可靠,可以用于精度、分辨率和重复性等性能指标的检测.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李小平	华中科技大学机械科学与工程学院	26	220	9.0	14.0
2	陈飞彪	华中科技大学机械科学与工程学院	3	22	3.0	3.0
3	金小兵	华中科技大学机械科学与工程学院	1	5	1.0	1.0
4	李志丹		2	5	1.0	2.0
5	肖可云		1	5	1.0	1.0