新型超大规模集成电路清洗技术

• 来源期刊: 试剂与精细化学品
• 学科: 工学
• 关键词: 超大规模集成电路 清洗技术 化学试剂 有机溶剂 清洗剂 亚微米 生产线 MOS 进口 超纯
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 页码范围: 10-11
• 页数: 2页
• 分类号: TQ413.2

摘要

目前我国3微米以下的超大规模集成电路生产线使用的传统清洗技术中的清洗剂，均为进口的MOS纯的酸、碱和有机溶剂。我国超大规模集成电路每年进口超净超纯化学试剂8000吨，亚微米超净超纯化学试剂2000吨。本清洗剂DGQ-1和DGQ-2对新型超大规模集成电路清洗技术完全可以代替它们。