反应磁控溅射制备高阈值激光反射膜的研究进展

• 作者: 何智兵 唐永建 王朝阳 黄常刚
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 化学
• 关键词: 反应磁控溅射 膜系设计 阈值 激光反射膜 进展
• 年，卷（期）: 2006,（z2）
• 所属期刊栏目: 光、电、磁功能材料
• 页码范围: 309-311
• 页数: 3页
• 分类号: O6
• 字数: 3779字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2006.z2.090

摘要

反应磁控溅射广泛应用于制备光学薄膜.分析了高阈值激光反射膜膜层材料的选择及膜系设计,比较了目前制备高阈值激光反射膜的几种常用方法.重点论述了反应磁控溅射制备高阈值激光反射膜需要解决的两个问题:工作点的选择及控制方法;反应磁控溅射中的打火、靶中毒及阳极消失.并且提出了相应的解决方案.阐述了影响激光反射膜损伤阈值的因素以及反应磁控溅射制备高阈值激光反射膜的优势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄常刚	西南科技大学材料科学与工程学院	4	40	4.0	4.0
5	唐永建	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	281	2334	24.0	31.0
6	王朝阳	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	96	655	14.0	19.0
7	何智兵	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	46	212	7.0	11.0