PVD溅射技术在MEMS器件制作中的应用

• 作者: 吴学忠 王雄
• 来源期刊: 传感技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微机电系统 PVD溅射 薄膜沉积速率 原子力显微镜
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 微纳制造
• 页码范围: 1434-1436,1440
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2248字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1699.2006.05.032

摘要

简单介绍了PVD溅射系统和溅射原理.实验分析了PVD溅射技术在微晶玻璃基片溅射沉积Cu膜时,沉积速率随相关工艺参数变化而变化的几点规律.给出了用PVD溅射技术沉积的Cu膜的表面形貌(AFM)图和显微镜照片.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴学忠	国防科技大学机电工程与自动化学院	70	934	18.0	28.0
2	王雄	国防科技大学机电工程与自动化学院	1	2	1.0	1.0