双离子束溅射非晶SiOxNy薄膜的光致发光研究

• 作者: 成珏飞
• 来源期刊: 信息记录材料
• 学科: 工学
• 关键词: SiOxNy薄膜 双离子束溅射 光致发光
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 29-32
• 页数: 4页
• 分类号: TN383.2
• 字数: 1944字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-5624.2007.04.007

摘要

采用双离子束溅射法制备了SiOxNy薄膜,用X射线衍射分析(XRD),透射电子显微镜(TEM),X射线光电子能谱(XPS),傅立叶变换红外(FTIR)等对薄膜的结构进行了表征,分析了样品的光致发光(PL)特性.X射线衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM)结果表明该薄膜具有非晶结构.XPS测试表明N1s的特征峰位于398eV,对应于N-Si键.在光吸收谱中,与Si-SiO2薄膜相比,SiOxNy的光学带隙得到展宽.在225nm的激光激发下,样品在室温下可发射可见光,峰位位于590nm,与N的缺陷有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	成珏飞	苏州职业大学基础部	5	3	1.0	1.0