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摘要:
采用双离子束溅射沉积法制备SiOxNy复合非晶薄膜,傅里叶变换红外光谱(FTIR)及X射线衍射谱(XPS)测试表明,薄膜成分由Si、O、N元素组成,在室温下可观察到样品有波长为400nm(紫光)、470nm(蓝光)的光致发光.根据测试结果分析研究SiOxNy薄膜的可能发光机理:波长为470nm处发光峰来自于硅基薄膜中中性氧空位缺陷(O2≡Si-Si≡O2),是由于氧原子配位的二价硅的单态-单态之间的跃迁所致,其发光强度随退火温度的升高而变化,800℃时最大,高于800℃时慢慢减弱;波长为400nm发光峰的发射与薄膜中的Si、O、N元素所形成的结构有关,它可能来自于Si、O、N元素结构所形成的发光中心,该峰位的强度随退火温度的升高而增强.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 非晶SiOxNy薄膜的发光特性研究
来源期刊 现代制造工程 学科 工学
关键词 非晶 薄膜 光致发光
年,卷(期) 2010,(5) 所属期刊栏目 制造技术/工艺装备
研究方向 页码范围 63-66
页数 分类号 TN304|O55
字数 2193字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1671-3133.2010.05.018
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘义保 东华理工大学物理系 80 338 10.0 15.0
2 徐小华 东华理工大学物理系 15 54 4.0 7.0
3 李群 东华理工大学物理系 13 16 2.0 3.0
4 游泳 东华理工大学物理系 12 54 2.0 7.0
传播情况
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非晶
薄膜
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研究起点
研究来源
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期刊影响力
现代制造工程
月刊
1671-3133
11-4659/TH
大16开
北京市西城区核桃园西街36号301A
2-431
1978
chi
出版文献量(篇)
9080
总下载数(次)
14
总被引数(次)
50123
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