ECR-CVD制备的非晶SiOxNy薄膜的光致蓝光发射

• 作者: 宁兆元 程珊华 许圣华 辛煜 陆新华 陈军 项苏留 黄松
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ECR-CVD,红外吸收光谱 非晶氮化硅薄膜,光致发光
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关学科技术领域
• 页码范围: 1287-1291
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 2034字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2003.05.047

摘要

使用90%N2稀释的SiH4与O2作为前驱气体,利用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)方法制备了非晶氮氧化硅薄膜(a-SiOxNy).红外吸收光谱的结果表明,a-SiOxNy薄膜主要由Si-O-Si和Si-N键的两相结构组成,在存在氧流量的情形下,薄膜主要成分是SiOx相,而在无氧流量的情形下,薄膜则主要是SiNx相.使用5.65eV的紫外光激发,发现SiOxNy薄膜出现了位于460nm的光致蓝光主峰,且其发光强度随着氧流量的降低而显著增强.根据缺陷态发光中心和SiNx蓝光发射能隙态模型,讨论了其发光机理,认为在低N含量时,蓝光发射是由于SiOx中的氧空位缺陷引起的;在高N含量时,蓝光发射强度的大幅度增强是由于SiNx的缺陷态中电子和空穴的辐射复合引起的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈军	苏州大学物理系薄膜材料实验室	59	269	10.0	13.0
2	项苏留	苏州大学分析测试中心	12	118	6.0	10.0
3	宁兆元	苏州大学物理系薄膜材料实验室	70	528	12.0	18.0
4	陆新华	苏州大学分析测试中心	16	95	6.0	9.0
5	辛煜	苏州大学物理系薄膜材料实验室	38	176	8.0	10.0
6	许圣华	苏州大学物理系薄膜材料实验室	9	137	4.0	9.0
7	黄松	苏州大学物理系薄膜材料实验室	8	86	4.0	8.0
8	程珊华	苏州大学物理系薄膜材料实验室	30	347	11.0	17.0