化学刻蚀的光学元件面形修复

• 作者: 侯晶 张清华 李瑞洁 王健 聂传继 许乔 项震
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 光学元器件 化学刻蚀 面形修复 Marangoni界面效应 粗糙度
• 年，卷（期）: 2007,（7）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 997-1001
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2438字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2007.07.001

摘要

采用化学加工方法对光学元器件进行面形加工,可以避免传统的抛光工艺带来的亚表面缺陷和表面污染.实验中利用Marangoni界面效应有效控制化学液的驻留时间和驻留面积,并通过数控系统实现编程控制加工,进行了面形修复实验,利用轮廓仪测量了加工前后的表面粗糙度.结果表明,采用拼接小去除量多次加工的方法,有效地降低了面形误差,面形值由1.32λ(λ=632 nm)减少到0.66λ,粗糙度基本维持不变.利用此实验装置使基片面形得到修复,避免了传统加工方式带来的亚表面缺陷等问题,有利于强激光系统的使用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王健		25	165	9.0	11.0
2	许乔		82	1074	17.0	27.0
3	项震	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	35	275	8.0	15.0
4	李瑞洁		8	96	6.0	8.0
5	张清华		18	154	7.0	12.0
6	聂传继	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	3	17	2.0	3.0
7	侯晶	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	11	95	7.0	9.0