以浸没式技术引领光刻设备市场

• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: ASML 浸没式光刻 双扫描台 扫描曝光设备 二次成像 双重曝光 极紫外光刻
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 专题报道
• 页码范围: 19-21,59
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文

摘要

在过去的几年中,ASML公司以创新的浸没式技术引领着光刻设备市场,又一次刷新了半导体制造的路线图.通过对浸没式光刻技术的再现和提升,ASML公司为芯片制造商开创了一个满足更小设计尺寸要求的生产芯片的新局面