单晶硅片纳米磨粒磨损的AFM模拟

• 作者: 安伟 王春 赵永武
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: AFM 模拟 纳米磨粒
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 273-275
• 页数: 3页
• 分类号: TN304
• 字数: 2869字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2007.02.028

摘要

当前的CMP磨损模型中,大多数主要是基于理论分析以及CMP中宏观影响因素所建立,并且都欠缺微观试验的证明.本文提出使用原子力显微镜(AFM)作为CMP中单个纳米磨粒模拟的方法,来验证模拟实验中载荷与扫描速率对微观磨损的影响,并依据此模拟试验的结果探讨了CMP磨损机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	安伟	江南大学机械工程学院	62	302	10.0	15.0
2	赵永武	江南大学机械工程学院	117	687	12.0	21.0
3	王春	江南大学机械工程学院	9	66	5.0	8.0