高纯铜溅射靶材的发展及现状

• 作者: 孙鹏 杨艳 汪春平 禹泽海
• 来源期刊: 山西冶金
• 学科: 工学
• 关键词: 高纯铜 溅射靶材 现状 发展趋势
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 4-6
• 页数: 3页
• 分类号: TG146.1
• 字数: 3349字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-1152.2007.05.002

摘要

简要介绍了高纯铜溅射靶材目前的市场情况、现状、应用领域和未来高纯铜溅射靶材发展趋势;并对高纯铜溅射靶材的特性要求以及微观组织控制做了简单的阐述.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	禹泽海		2	18	1.0	2.0
2	孙鹏		3	18	1.0	3.0
3	汪春平		3	18	1.0	3.0
4	杨艳		1	18	1.0	1.0