钼溅射靶材的应用、制备及发展

• 作者: 刘仁智 安耿 张常乐 李晶 陈强
• 来源期刊: 中国钼业
• 学科: 工学
• 关键词: 钼溅射靶材 应用 制备 发展
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 金属加工
• 页码范围: 45-48
• 分类号: TG146.4+11
• 字数: 4055字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-2602.2011.02.013

摘要

随着平面显示器行业和光伏行业的迅速发展,钼溅射靶材的需求量越来越大.本文就钼溅射靶材的特点,从其应用、市场、制备工艺以及发展趋势等方面进行了总结和讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李晶	金堆城钼业股份有限公司技术中心	32	150	7.0	10.0
2	刘仁智	金堆城钼业股份有限公司技术中心	46	221	7.0	11.0
3	陈强	金堆城钼业股份有限公司技术中心	20	87	4.0	9.0
4	张常乐	金堆城钼业股份有限公司技术中心	11	65	5.0	7.0
5	安耿	金堆城钼业股份有限公司技术中心	37	186	7.0	11.0