熔铸法制备贫铀溅射靶片

• 作者: 赵云峰 邹本慧 郭洪 齐永良
• 来源期刊: 产业与科技论坛
• 关键词: 贫铀 磁控溅射 靶片
• 年，卷（期）: 2014,（13）
• 页码范围: 80-80,81
• 页数: 2页
• 字数: 2147字
• 语种: 中文

摘要

为制备高纯度、高密度,高表面光洁度,内部晶粒尺寸细小且均匀分布的贫铀溅射靶片,开展了真空感应精炼、挤压、墩粗热加工、真空热处理工艺试验,制备了实心单质圆柱形贫铀溅射靶片。分析结果表明：贫铀溅射靶片杂质含量少,内部晶粒尺寸<20μm,晶粒分布均匀,密度>18.90g/cm3,柱面粗糙度Ra<0.8μm,端面粗糙度<0.4μm,完全满足磁控溅射铀薄膜对贫铀溅射靶材的技术要求。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	齐永良		4	0	0.0	0.0
2	郭洪		4	3	1.0	1.0
3	邹本慧		1	0	0.0	0.0
4	赵云峰		1	0	0.0	0.0