Ar/N2气体比例对TaN/NbN纳米多层膜机械性能的影响

• 作者: 刘桐 张学华 曹猛 李德军 杨瑾 王明霞 邓湘云
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频磁控溅射 TaN/NbN多层膜 Ar/N2气体比例
• 年，卷（期）: 2007,（z1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 31-33
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 2684字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2007.z1.008

摘要

采用射频磁控溅射系统,以TaN和NbN作为体材料,制备了一系列TaN/NbN纳米多层膜.通过XRD,纳米力学测试系统分析了该体系合成中Ar/N2气体比例对多层膜结构与机械性能的影响.结果表明,纳米多层膜的硬度值普遍高于两种个体材料混合相的值;当FAr:FN2=10时TaN的(110)峰加强,TaN的晶体结构以六方结构为主,NbN的晶体结构以面心立方结构为主,此时,多层膜体系的硬度、弹性模量以及膜基结合性能均达到最佳效果(最大硬度为30 GPa),摩擦磨损实验表明,Ar/N2比为10:1的TaN/NbN多层膜较其他Ar/N2比的多层膜耐磨性更好,不易发生破损,适合实际应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王明霞	天津师范大学物理与电子信息学院	15	45	5.0	5.0
2	杨瑾	天津师范大学物理与电子信息学院	14	36	4.0	4.0
3	李德军	天津师范大学物理与电子信息学院	73	242	7.0	11.0
4	邓湘云	天津师范大学物理与电子信息学院	29	75	5.0	6.0
5	刘桐	天津师范大学物理与电子信息学院	29	103	6.0	8.0
6	张学华	天津师范大学物理与电子信息学院	10	34	4.0	5.0
7	曹猛	天津师范大学物理与电子信息学院	12	36	5.0	5.0