镍诱导纳米晶硅薄膜的生长

• 作者: 何悦 冯嘉猷 毕磊
• 来源期刊: 江苏大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米晶硅 金属镍诱导 薄膜 光致发光 磁控溅射 分相
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 123-126
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 3516字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7775.2007.02.009

摘要

采用磁控溅射方法制备了含镍过渡层的富纳米晶硅二氧化硅薄膜.对薄膜退火后的微观结构和发光性能进行了试验分析.结果表明,在高温退火后,有Ni过渡层的富纳米晶硅薄膜较没有Ni过渡层的薄膜具有更高的纳米晶硅密度和更强的室温光致发光强度.对试验结果进行热力学分析后,认为NiSi2作为纳米晶硅的形核中心诱导了薄膜的分相和纳米晶硅生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯嘉猷	清华大学材料科学与工程系	4	73	3.0	4.0
2	何悦	清华大学材料科学与工程系	1	0	0.0	0.0
3	毕磊	清华大学材料科学与工程系	1	0	0.0	0.0