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IC用铜基引线框架材料的现状与发展
IC用铜基引线框架材料的现状与发展
作者:
李莉
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
集成电路
铜合金
引线框架
摘要:
介绍了国内外常用的IC用引线框架材料的性能及研究现状,并对其发展前景进行了展望.
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文献信息
篇名
IC用铜基引线框架材料的现状与发展
来源期刊
有色金属加工
学科
工学
关键词
集成电路
铜合金
引线框架
年,卷(期)
2007,(2)
所属期刊栏目
材料研究
研究方向
页码范围
15-16
页数
2页
分类号
TG146.1+1|TN47
字数
1810字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1671-6795.2007.02.004
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李莉
江西理工大学材料与化学工程学院
37
146
6.0
10.0
传播情况
被引次数趋势
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(/年)
引文网络
引文网络
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集成电路
铜合金
引线框架
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
有色金属加工
主办单位:
中国有色金属工业协会
洛阳有色金属加工设计研究院
出版周期:
双月刊
ISSN:
1671-6795
CN:
11-4742/TF
开本:
大16开
出版地:
河南省洛阳市涧西区西苑路1号
邮发代号:
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
2227
总下载数(次)
6
总被引数(次)
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