磁控溅射离子镀基体偏压对类石墨碳膜组织形貌及性能的影响

• 作者: 李玉庆 梁戈 蒋百灵 郑彬娜
• 来源期刊: 兵器材料科学与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 非平衡磁控溅射 偏压 形貌 沉积速率
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 13-16
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.44
• 字数: 2684字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-244X.2007.04.004

摘要

采用非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅衬底上沉积类石墨碳膜(GLC),研究基体负偏压对GLC膜的组织形貌及性能的影响.结果表明:基体偏压影响镀层表面形貌,-30 V下的镀层表面为较小颗粒状组织;-65 V下的镀层表面均匀致密,无明显颗粒组织;-90 V下的镀层颗粒边界趋于明显;-120 V下的出现大小不均匀的颗粒.沉积速率在-65 V前保持平稳,-90 V时下降为0.25 μm·h-1.随偏压的增加,Ar元素含量先增加后降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵	西安理工大学材料学院	241	5240	40.0	64.0
2	梁戈	西安理工大学材料学院	16	229	9.0	15.0
3	郑彬娜	西安理工大学材料学院	1	9	1.0	1.0
4	李玉庆	西安理工大学材料学院	2	17	2.0	2.0