52Cr原子光刻制作纳米结构研究

• 作者: 张文涛 李同保
• 来源期刊: 量子电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 原子光学 纳米结构 原子光刻 沉积图案
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 激光应用
• 页码范围: 85-88
• 页数: 4页
• 分类号: TN2
• 字数: 2806字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-5461.2007.01.017

摘要

纳米结构制作技术中,原子光刻具有独特的优势.为了能够达到纳米制作的要求,并得到所需的沉积条纹,设计了一套实验装置,并分别对原子光刻技术中的原子源、激光系统、稳频系统、原子准直系统和沉积结果进行具体的分析.根据所设计的实验装置,采用分步实验的方式,对各子系统进行了相关数据的采集和测试.其中,稳频精度达到了0.26 MHz精度,铬原子发散角经激光冷却系统由4.5 mrad降低到了0.9 mrad,最后沉积的纳米条纹间距为234 nm条纹高度约为0.276 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张文涛		105	506	10.0	18.0
5	李同保		41	130	7.0	8.0