微波法大功率稳定快速沉积CVD金刚石膜

• 作者: 汪建华 黄建良
• 来源期刊: 武汉工程大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜 微波 化学气相沉积 装置 磁控管
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 页码范围: 63-66
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|TP271
• 字数: 2844字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-2869.2007.04.018

摘要

为了提高微波等离子体化学气相沉积CVD金刚石膜的速率,通过对微波源的磁控管、装置的冷却系统及真空密封技术三方面的改进,当微波频率为2.45 GHz、输出有效功率为6.0 kW以上时,装置能够长期稳定地运行;并在微波输入功率4.5 kW、CH4质量分数1.2%、气体流量150 SCCM、沉积气压9.5 kPa、基片温度(900±10)°C、沉积时间240 h的沉积工艺条件下(衬底上加上-150 V偏压),成功地在硅片上快速沉积出了厚度为500 μm的金刚石厚膜,平均沉积速率为2.1 μm/h,沉积膜的拉曼光谱图和SEM照片表明沉积出金刚石膜的质量很好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪建华	武汉工程大学等离子体化学与新材料省重点实验室	123	698	14.0	19.0
5	黄建良	武汉工程大学等离子体化学与新材料省重点实验室	2	41	2.0	2.0