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摘要:
本文研究了InP/GaP晶格失配界面的电特性.HRTEM图象表明在界面存在90°位错缺陷的应变缓释.ECV表明界面存在高密度载流子层.AFM图象表明本研究中获得了粗糙度为2.48nm的良好InP异质外延层.并对于InP界面给出了一个基于费米能级钉扎的模型来解释观察到的电性质.
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文献信息
篇名 InP/GaP晶格失配界面的电特性
来源期刊 人工晶体学报 学科 工学
关键词 晶格失配 InP/GaP界面 缺陷
年,卷(期) 2007,(5) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 1022-1025
页数 4页 分类号 TN304
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-985X.2007.05.013
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研究主题发展历程
节点文献
晶格失配
InP/GaP界面
缺陷
研究起点
研究来源
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研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
出版文献量(篇)
7423
总下载数(次)
16
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38029
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