氮气对MPCVD法金刚石薄膜性能的影响

• 作者: 史新伟 周秋霞 姚宁 张兵临 柴士磊
• 来源期刊: 中国材料科技与设备
• 学科: 物理学
• 关键词: 纳米聚晶金刚石薄膜 二次形核 碳二聚物(C2)
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 页码范围: 50-52
• 页数: 3页
• 分类号: O484

摘要

在CH4和H2的混合气体中，加入N2，并不断改变其含量，用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备制备了金刚石薄膜。利用扫描电镜观察薄膜的表面形貌，用X-ray衍射方法进行物相鉴定，用Raman光谱分析薄膜的纯度。结果表明：氮气含量不同，薄膜的沉积情况也不同，由于氮气含量的变化，薄膜沉积过程中形成一种纳米聚晶金刚石薄膜，本文从氮离子轰击和晶粒生长的角度分析了氮的添加对所制备的金刚石薄膜性能的影响。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚宁	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	122	692	12.0	18.0
2	张兵临	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	95	608	12.0	18.0
3	史新伟	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	28	177	7.0	12.0
4	柴士磊	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	2	1	1.0	1.0
5	周秋霞	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	3	7	1.0	2.0