磁过滤阴极弧法TiN薄膜的制备及其微观机械性能研究

• 作者: 吴志申 张玉娟 牛坚 王智
• 来源期刊: 润滑与密封
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化钛 择优取向 微刻划 微观机械性能
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 31-36
• 页数: 6页
• 分类号: TB383
• 字数: 4418字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-0150.2007.06.009

摘要

采用"S"型磁过滤阴极弧等离子体沉积技术,室温下在(111)面单晶硅上沉积氮化钛薄膜.采用AFM和XRD技术分别对薄膜的表面形貌和晶体择优取向进行了表征,并用微刻划的方法分析薄膜的微观机械性能.结果表明,薄膜表面光滑致密,随偏压的增大,表面颗粒粒径先增大后减小,并且从(111)面的择优取向转变成(220)面.在刻划实验中,随载荷增加,薄膜先后经历了完全弹性变形,弹-塑性变形和脆性断裂阶段.利用直接和间接2种方法对得到的薄膜的临界载荷进行分析对比,发现在不同负偏压下,薄膜的内应力和临界载荷不同.随着负偏压的增大,薄膜的内应力逐渐增大,临界载荷逐渐减小.在-100 V偏压下制备的氮化钛薄膜的微观机械性能最为理想.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴志申	河南大学特种功能材料重点实验室	110	1383	20.0	29.0
2	王智	河南大学特种功能材料重点实验室	4	21	3.0	4.0
3	张玉娟	河南大学特种功能材料重点实验室	20	184	7.0	13.0
4	牛坚	河南大学特种功能材料重点实验室	3	6	2.0	2.0