阴极弧电流对TiN及(TiTa)N薄膜结构和性能影响

• 作者: 刘燕燕 张庆瑜 林国强 白晓
• 来源期刊: 大连理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微观结构 显微硬度/电弧离子镀 阴极弧电流 TiN薄膜 (TiTa)N薄膜
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 数学、物理、力学
• 页码范围: 644-648
• 页数: 5页
• 分类号: TG115.221|TG174.442
• 字数: 3109字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-8608.2002.06.003

摘要

利用电弧离子镀技术在高速钢基体上制备了TiN和(TiTa)N薄膜.采用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)对薄膜的微观组织结构进行了系统分析.研究结果显示:随着阴极弧电流的增加,沉积温度线性上升,薄膜由(111)织构向无择优取向转化;阴极弧电流对TiN薄膜的显微硬度影响较大,而对(TiTa)N薄膜的显微硬度无显著影响.此外,讨论了阴极弧电流对TiN和(TiTa)N薄膜的微观组织和性能的影响机制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张庆瑜	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	92	897	16.0	25.0
2	林国强	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	59	562	13.0	21.0
3	白晓	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	2	29	2.0	2.0
4	刘燕燕	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	2	43	2.0	2.0