衬底偏压对γ′-Fe4 N薄膜磁性的影响

• 作者: 宫杰 王丽丽 赵利军 郑伟涛
• 来源期刊: 吉林大学学报（理学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: γ′-Fe4N薄膜 衬底偏压 磁性
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 物理
• 页码范围: 963-966
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 1797字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-5489.2008.05.032

摘要

采用直流磁控溅射方法, 以Ar/N2(N2/(Ar+N2)=10%)为放电气体, 在Si(100)单晶衬底上获得了γ′-Fe4N薄膜样品. 利用X射线衍射(XRD)和振动样品磁强计(VSM)研究衬底偏压对γ′-Fe4N薄膜样品的影响. 结果表明, 随着衬底负偏压的增大, γ′-Fe4N薄膜样品的晶胞参数减小, Fe和N的化合效率与样品的致密度提高, 表面缺陷减少, 矫顽力降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王丽丽	长春大学理学院	49	108	6.0	8.0
2	赵利军	长春大学理学院	34	49	4.0	5.0
3	宫杰	长春大学理学院	13	28	3.0	4.0
4	郑伟涛	吉林大学材料科学与工程学院	48	245	8.0	13.0