光刻设备中工件台激光测长原理

• 作者: 杨兴平 韦俊
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 激光干涉仪 塞曼效应 偏振 干涉 光刻设备 工件台
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: 光刻技术与设备
• 页码范围: 28-35
• 页数: 8页
• 分类号: TN305
• 字数: 7191字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2008.10.005

摘要

通过对双频激光干涉仪的原理、结构、双频产生机理进行分析,阐述激光干涉仪在光刻设备中的实际应用,探讨激光干涉仪技术.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韦俊		1	6	1.0	1.0
2	杨兴平		2	8	2.0	2.0