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摘要:
GaN材料作为第三代半导体材料已成为短波长光电子器件及高频,高压、高温微电子器件制备的最优选材料,而难以获得高质量的P型GaN成为阻碍GaN器件进一步发展和应用的重要原因.介绍了P型掺杂存在的问题,讨论了P型掺杂的激活方法和机理,综述了目前P型掺杂国内外的研究进展情况,最后指出了今后的研究方向.
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内容分析
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文献信息
篇名 基于GaN材料p型掺杂的研究进展
来源期刊 红外技术 学科 工学
关键词 GaN P型掺杂 退火 激活 机理
年,卷(期) 2008,(3) 所属期刊栏目 材料与器件
研究方向 页码范围 146-149
页数 4页 分类号 TN213
字数 3529字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-8891.2008.03.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘一兵 湖南大学电气与信息工程学院 22 487 12.0 22.0
5 黄新民 湖南大学电气与信息工程学院 11 190 5.0 11.0
7 刘安宁 邵阳职业技术学院机电工程系 10 93 5.0 9.0
8 肖宏志 邵阳职业技术学院机电工程系 13 139 5.0 11.0
传播情况
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
GaN
P型掺杂
退火
激活
机理
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
红外技术
月刊
1001-8891
53-1053/TN
大16开
昆明市教场东路31号《红外技术》编辑部
64-26
1979
chi
出版文献量(篇)
3361
总下载数(次)
13
总被引数(次)
30858
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