磁控溅射Ti/WO3薄膜的微结构及光学性能

• 作者: 孙彩芹 张召涛 杨晓红 闫勇彦 马勇
• 来源期刊: 中国钨业
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 Ti/WO3薄膜 微结构 光学常数
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 冶金·材料
• 页码范围: 23-26
• 页数: 4页
• 分类号: TP212.1
• 字数: 3085字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-0622.2008.03.006

摘要

采用直流反应磁控溅射技术在玻璃基片上制备不同氧分压的Ti掺杂的WO3薄膜.用X射线衍射(XRD)、分光光度计、台阶仪等对薄膜的结构、光学性质进行表征;分析不同的氧分压对气敏薄膜透光率和结构的影响.结果表明,氧分压增大,膜厚减小,薄膜的平均晶粒尺寸增大,晶面间距增大,光学带隙变小.并用包络线法和经验公式法计算出薄膜的光学常数,结果表明,折射率和消光系数随氧分压的增加而增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马勇	重庆师范大学物理与信息技术学院	52	378	11.0	17.0
2	杨晓红	重庆师范大学物理与信息技术学院	39	223	8.0	13.0
3	张召涛	重庆师范大学物理与信息技术学院	4	17	3.0	4.0
4	闫勇彦	重庆师范大学物理与信息技术学院	6	32	4.0	5.0
5	孙彩芹	重庆师范大学物理与信息技术学院	4	21	3.0	4.0