PLD方法在CVD金刚石膜上生长ZnO薄膜及其特性研究

• 作者: 余庆选 傅竹西 廖源 张五堂 张吉明
• 来源期刊: 量子电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 材料 氧化锌薄膜 脉冲激光沉积法 金刚石 应力
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 激光应用
• 页码范围: 240-245
• 页数: 6页
• 分类号: TN249|O484
• 字数: 3483字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-5461.2008.02.022

摘要

采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在(110)和(100)织构金刚石膜上成功制备出高度c-轴取向的ZnO薄膜,然后在纯氮气氛条件下对ZnO薄膜进行退火处理.作为比较,也在(100)Si上生长的ZnO薄膜进行了相同的处理.通过测量X射线衍射(XRD)谱和光致发光(PL)谱,研究了不同衬底性质和退火对薄膜结构和发光特性的影响.实验结果表明,在(100)织构金刚石上的ZnO膜具有最好的结晶质量,其半高宽只有0.2°.退火之后近紫外发光峰明显减弱的同时,绿色发光峰得到增强.这里归结为氮气退火后氧空位的增加,这点从退火后的XPS谱中可以得到进一步的确认.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张吉明	中国科学技术大学理化科学实验中心	3	37	3.0	3.0
5	廖源	中国科学技术大学理化科学实验中心	12	95	5.0	9.0
9	张五堂	中国科学技术大学物理系	2	6	2.0	2.0
10	余庆选	中国科学技术大学物理系	7	39	4.0	6.0
11	傅竹西	中国科学技术大学理化科学实验中心	53	808	17.0	27.0