CVD金刚石膜表面图形化加工技术的研究

• 作者: 余学超 吴宇琼 孙蕾 汪建华 满卫东 谢鹏
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜 图形化加工 刻蚀 等离子体
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜技术
• 页码范围: 25-29
• 页数: 5页
• 分类号: TN
• 字数: 2029字
• 语种: 中文

摘要

首先用CVD法制备金刚石厚膜,接着在其表面利用氢等离子体辅助刻蚀,然后在铁薄膜的催石墨化作用下,对金刚石膜的表面进行了选择性的刻蚀.结果表明,在氢等离子体的辅助作用下,铁薄膜可以持续对CVD金刚石膜进行刻蚀;如果控制铁薄膜的形状和厚度,可以实现对CVD金刚石膜表面较精确的图形化刻蚀.该技术有望成为一种新的刻蚀金刚石膜的方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪建华		123	698	14.0	19.0
3	满卫东		45	370	11.0	16.0
5	吴宇琼	江汉大学化学与环境工程学院	19	76	5.0	8.0
6	谢鹏	武汉工程大学材料科学与工程学院	13	110	6.0	10.0
7	孙蕾	武汉工程大学材料科学与工程学院	7	73	4.0	7.0
8	余学超	武汉工程大学材料科学与工程学院	4	16	2.0	4.0