新型透明导电ZnO:Mo薄膜

• 作者: 张群 杨锡良 沈杰 王三坡 章壮健
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 掺钼氧化锌(ZMO)薄膜 磁控溅射 电阻率 透射率
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 3380字
• 语种: 中文

摘要

采用直流磁控反应溅射技术成功制备了新型ZnO:Mo(ZMO)透明导电薄膜.研究了钼掺杂量和基片温度等参数对ZMO薄膜结构和光电性能的影响.结果表明,薄膜的结构和光电性能与钼含量以及基片温度有关.x光衍射图谱(XRD)显示薄膜具有六角纤锌矿结构,并且在基片温度为200℃,钼含量(Mo/Zn+Mo)为1.5wt%时薄膜具有较好的c轴取向.制备出的ZMO薄膜最低电阻率为1.97×10-3 Ω·cm,相应载流子迁移率达37.0 cm2V-1s-1,载流子浓度为8.57×1019 cm-3,在可见光区域的平均透射率达到80%左右.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈杰	复旦大学材料科学系	79	645	12.0	22.0
2	张群	复旦大学材料科学系	110	917	15.0	24.0
3	杨锡良	复旦大学材料科学系	22	512	13.0	22.0
4	章壮健	复旦大学材料科学系	41	667	16.0	24.0
5	王三坡	复旦大学材料科学系	3	40	3.0	3.0