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摘要:
从2001年Intel在IEDM发表第一篇相变存储器的论文以来,相变存储器的发展十分迅猛.相变存储器由于具有非易失性、循环寿命长、元件尺寸小、功耗低、可多级存储、高速读取、抗辐射、耐高低温、抗振动、抗电子干扰和制造工艺简单等优点,被认为最有可能取代目前的FLASH和DRAM而成为未来半导体存储器主流产品.文中系统地介绍了嵌入式相变存储器的存储机理及其主要工作特点,从相变材料,器件结构,存储阵列等方面分析国内外研究现状,并讨论了器件失效与可靠性问题.
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文献信息
篇名 嵌入式相变存储器的技术特点和研究现状
来源期刊 信息技术 学科 工学
关键词 相变存储器 相变材料 器件结构 存储阵列
年,卷(期) 2008,(5) 所属期刊栏目 综述与评论
研究方向 页码范围 169-172,174
页数 5页 分类号 TN303
字数 4025字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1009-2552.2008.05.054
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 程秀兰 上海交通大学微电子学院 48 205 5.0 12.0
2 尹文 上海交通大学微电子学院 2 11 2.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
相变存储器
相变材料
器件结构
存储阵列
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
信息技术
月刊
1009-2552
23-1557/TN
大16开
哈尔滨市南岗区黄河路122号
14-36
1977
chi
出版文献量(篇)
11355
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31
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