X射线反射(XRR)对薄膜样品厚度的研究

• 作者: 于吉顺 张锦化 肖平 陆琦
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: X射线反射 有机薄膜 薄膜厚度测定
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 199-201
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 2098字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2008.02.007

摘要

X射线的反射(XRR)测量法可精确地确定平行层及其薄膜结构,如测定光滑基体上聚合物膜的特性,包括层的厚度、密度和界面粗糙度.使用X'Pert X射线粉晶衍射仪对单晶硅片上的有机薄膜镀层进行了其厚度的精确测定,测定结果为该单晶硅片上的有机薄膜有3层,其厚度分别为5.0、60.2和245.3nm.并用倒易向量方法计算和验证了测量结果的正确性.还讨论了用X射线反射测定薄膜结构的一些影响因素.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陆琦	中国地质大学地质过程与矿产资源国家重点实验室	41	689	16.0	25.0
2	于吉顺	中国地质大学地质过程与矿产资源国家重点实验室	22	250	9.0	15.0
6	肖平	中国地质大学地球科学学院	12	114	6.0	10.0
7	张锦化	中国地质大学材料科学与化学工程学院	7	44	4.0	6.0