纳米薄膜厚度的X射线测量

• 作者: 李戈扬 毛顺娟 竺品芳 赖倩茜
• 来源期刊: 理化检验-物理分册
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米薄膜 厚度测量 多层膜 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2000,（12）
• 所属期刊栏目: 测试技术与方法
• 页码范围: 549-551
• 页数: 3页
• 分类号: TB3
• 字数: 2721字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4012.2000.12.005

摘要

研究了通过小角度X射线衍射(XRD)技术测量纳米薄膜沉积厚度与沉积速率的方法,并测定了在SiC表面沉积Fe纳米薄膜的厚度和沉积速率.结果表明,采用小角度XRD技术测量纳米薄膜厚度和沉积速率,能克服基片性质、表面平整度和金属膜氧化的影响,准确、方便地测量纳米薄膜的厚度和沉积速率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
2	竺品芳	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	12	105	5.0	10.0
3	赖倩茜	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	10	128	7.0	10.0
4	毛顺娟	上海交通大学高温材料及高温测试教育部开放实验室	1	18	1.0	1.0