基于X射线掠射法的纳米薄膜厚度计量与量值溯源研究

• 作者: 崔建军 高思田
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 纳米计量 纳米薄膜厚度 X射线掠射 厚度计量
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 所属期刊栏目: 总论
• 页码范围: 060601-1-060601-8
• 页数: 1页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.63.060601

摘要

为了实现纳米薄膜厚度的高精度计量，研制了可供台阶仪、扫描探针显微镜等接触测量的纳米薄膜样片，研究了X 射线掠射法测量该纳米薄膜样片厚度的基本原理和计算方法，导出了基于Kiessig厚度干涉条纹计算膜层厚度的线性拟合公式，并提出了一种可溯源至单晶硅原子晶格间距和角度计量标准的纳米膜厚量值溯源方法，同时给出了相应的不确定度评定方法.实验证明：该纳米薄膜厚度H测量相对扩展不确定度达到U =0.3 nm+1.5%H ，包含因子k=2.从而建立了一套纳米薄膜厚度计量方法和溯源体系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高思田		93	567	11.0	19.0
2	崔建军		33	122	6.0	8.0