脉冲激光溅射沉积镱铒共掺Al2O3薄膜工艺参数优化

• 作者: 刘中凡 宋昌烈 朱文选 郝雪
• 来源期刊: 应用激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光沉积(PLD) 镱、铒共掺Al2O3薄膜 氧分压 靶间距
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 页码范围: 194-198
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2320字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-372X.2009.03.004

摘要

分别以铝、铒、镱为靶材,采用脉冲激光沉积技术(PLD),在二氧化硅/硅基底上沉积镱、铒共掺的三氧化二铝薄膜.利用原子力显微镜(AFM)、单色仪等分析手段,研究了薄膜的表面形貌、光致发光强度(PL)等性质.优化了氧分压和靶间距两个重要工艺参数.光致发光强度提高14倍,半峰宽提高了70nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘中凡	大连大学物理科学与技术学院	12	128	6.0	11.0
2	郝雪	大连大学物理科学与技术学院	2	7	2.0	2.0
3	朱文选	大连大学物理科学与技术学院	2	7	2.0	2.0
4	宋昌烈	大连大学物理科学与技术学院	2	7	2.0	2.0