金刚石膜抛光装置的有限元分析

• 作者: 周丽 许立福 黄树涛
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜 抛光装置 有限元法
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 页码范围: 10-14,17
• 页数: 6页
• 分类号: TQ164
• 字数: 3195字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2009.04.002

摘要

本文建立了金刚石膜抛光装置的实体模型,采用接触分析法计算抛光装置高速旋转时,抛光盘厚度和转速对抛光装置的强度、刚度的影响规律.结果表明:随着金刚石膜抛光盘厚度的增加,同一转速下,von Mises等效应力与径向位移的变化很小,而轴向位移在抛光盘厚度较小时呈直线上升趋势,当抛光盘厚度大于等于8 mm时,轴向位移的变化逐渐趋于平稳.同时,对于同一厚度的金刚石膜抛光装置,随着转速的提高,von Mises等效应力和径向位移呈现相似的上升趋势,轴向位移却先上升后下降.文中得出的结论为金刚石膜超高速抛光机的设计和实际操作,提供了可靠的理论依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周丽	沈阳理工大学机械工程学院	62	335	10.0	15.0
2	许立福	沈阳理工大学机械工程学院	68	220	9.0	11.0
3	黄树涛	沈阳理工大学机械工程学院	110	475	12.0	15.0