微波等离子体刻蚀技术研究

• 作者: 刘英坤 张振宇 胡顺欣 苏延芬 邓建国
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 高密度等离子体微波干法刻蚀失效分析
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 本期专题(光刻与刻蚀)
• 页码范围: 13-18
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3135字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2009.04.003

摘要

以Coria1200M型干法刻蚀机的三种刻蚀模式为基础,分析了微波等离子体刻蚀技术的优缺点,并讨论了下电极结构对干法刻蚀形貌、一致性和重复性的影响.利用微波等离子体刻蚀技术与反应离子刻蚀技术相结合,实现了SiO2各向同性刻蚀,成功应用于质量控制和失效分析等环节.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张振宇	中国电子科技集团公司第十三研究所	4	11	3.0	3.0
2	胡顺欣	中国电子科技集团公司第十三研究所	9	21	3.0	4.0
3	苏延芬	中国电子科技集团公司第十三研究所	6	39	2.0	6.0
4	邓建国	中国电子科技集团公司第十三研究所	19	45	4.0	5.0
5	刘英坤	中国电子科技集团公司第十三研究所	30	183	8.0	12.0