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AlN陶瓷与可伐合金的活性封接
AlN陶瓷与可伐合金的活性封接
作者:
张小勇
张玲艳
曲选辉
秦明礼
陆艳杰
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
Ti-Ag活性焊料
活性封接
显微结构
封接强度
摘要:
采用Ag-Ti3活性焊料在真空条件下对AlN陶瓷与可伐合金进行了活性封接.采用SEM-EDX,XRD,EBSD方法分析了焊接层的显微组织结构和相组成.测定了焊接力学性能,并对断裂表面进行了组织结构和相分析.在1240 K真空条件下焊接性能良好,抗弯强度σb=205.89 MPa,剪切强度στ=176.10 MPa.
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活性钎焊
微观分析
内容分析
文献信息
引文网络
相关学者/机构
相关基金
期刊文献
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
(/次)
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文献信息
篇名
AlN陶瓷与可伐合金的活性封接
来源期刊
真空电子技术
学科
工学
关键词
Ti-Ag活性焊料
活性封接
显微结构
封接强度
年,卷(期)
2009,(4)
所属期刊栏目
电子陶瓷、陶瓷-金属封接与真空开关管用陶瓷管壳应用专辑
研究方向
页码范围
4-7
页数
4页
分类号
TB743
字数
2840字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-8935.2009.04.002
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
曲选辉
北京科技大学粉末冶金研究所
389
3554
28.0
36.0
2
秦明礼
北京科技大学粉末冶金研究所
80
495
12.0
15.0
3
张小勇
25
210
9.0
13.0
4
陆艳杰
21
173
8.0
12.0
5
张玲艳
北京科技大学粉末冶金研究所
4
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3.0
4.0
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2009(1)
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研究主题发展历程
节点文献
Ti-Ag活性焊料
活性封接
显微结构
封接强度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
主办单位:
北京真空电子技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-8935
CN:
11-2485/TN
开本:
大16开
出版地:
北京749信箱7分箱
邮发代号:
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
2372
总下载数(次)
7
总被引数(次)
8712
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