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摘要:
采用Ag-Ti3活性焊料在真空条件下对AlN陶瓷与可伐合金进行了活性封接.采用SEM-EDX,XRD,EBSD方法分析了焊接层的显微组织结构和相组成.测定了焊接力学性能,并对断裂表面进行了组织结构和相分析.在1240 K真空条件下焊接性能良好,抗弯强度σb=205.89 MPa,剪切强度στ=176.10 MPa.
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文献信息
篇名 AlN陶瓷与可伐合金的活性封接
来源期刊 真空电子技术 学科 工学
关键词 Ti-Ag活性焊料 活性封接 显微结构 封接强度
年,卷(期) 2009,(4) 所属期刊栏目 电子陶瓷、陶瓷-金属封接与真空开关管用陶瓷管壳应用专辑
研究方向 页码范围 4-7
页数 4页 分类号 TB743
字数 2840字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-8935.2009.04.002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 曲选辉 北京科技大学粉末冶金研究所 389 3554 28.0 36.0
2 秦明礼 北京科技大学粉末冶金研究所 80 495 12.0 15.0
3 张小勇 25 210 9.0 13.0
4 陆艳杰 21 173 8.0 12.0
5 张玲艳 北京科技大学粉末冶金研究所 4 20 3.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
Ti-Ag活性焊料
活性封接
显微结构
封接强度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
双月刊
1002-8935
11-2485/TN
大16开
北京749信箱7分箱
1959
chi
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