W/Al双层膜系的纳米压痕实验及有限元仿真

• 作者: 尚帅华 李春 杨平
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 纳米压痕 力学性能 有限元仿真 应力分布
• 年，卷（期）: 2009,（11）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 60-63
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.92
• 字数: 3299字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2009.11.017

摘要

采用磁控溅射法在CAT.No.7101玻璃基底上沉积了W/Al双层金属膜,并对其进行纳米压痕实验.利用非线性有限元法对压痕过程进行仿真,分析了膜基体系的应力分布.结果表明:磁控溅射法制备的薄膜组织均匀、力学性能好.W/Al双层金属膜系中的W薄膜的弹性模量与硬度平均值分别为75.433 5 GPa、6.206 GPa,其值与块状W材料的相应参数差别较大.仿真曲线与实验结果基本相符,能够反映出膜基体系的力学状态以及应力分布规律.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨平	江苏大学微纳米科学技术研究中心	39	198	8.0	11.0
2	尚帅华	江苏大学微纳米科学技术研究中心	1	5	1.0	1.0
3	李春	江苏大学微纳米科学技术研究中心	2	13	2.0	2.0