ZnO和ZAO薄膜磁控溅射等离子体发射光谱

• 作者: 熊予莹 韩力
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 无机非金属材料 ZAO薄膜 等离子体 发射光谱
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 42-44
• 页数: 3页
• 分类号: TN304
• 字数: 2756字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2009.03.013

摘要

采用在线测试等离子体发射光谱的方法,研究了ZnO薄膜和ZAO薄膜磁控溅射生长等离子体的状态,分析了ZAO薄膜生长过程中的工作压强、溅射功率和衬底温度这几个重要参数对等离子体状态影响的规律.结果表明:主要是等离子体中粒子的密度随实验参数发生规律性变化,其变化规律与实验参数对薄膜生长质量影响的规律基本一致,可以定性地解释影响薄膜结晶质量的直接原因.最佳参数为:压强0.2 Pa, 功率80 W和温度450 ℃.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊予莹	华南师范大学物理与电信工程学院	38	421	11.0	19.0
2	韩力	华南师范大学物理与电信工程学院	2	2	1.0	1.0