脉冲激光沉积法制备ZrW2O8薄膜

• 作者: 刘红飞 张志萍 程晓农
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 工学
• 关键词: 钨酸锆 薄膜 脉冲激光沉积
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 专栏:零膨胀或负膨胀材料
• 页码范围: 755-759
• 页数: 5页
• 分类号: O484.5|TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0454-5648.2009.05.017

摘要

采用纯ZrW2O8陶瓷靶材,以脉冲激光沉积法在石英基片上沉积并退火处理后制备了ZrW2O8薄膜.利用X射线衍射仪、X射线光电子能谱 仪和扫描电子显微镜观察和确定r薄膜结构、化学组分和表面形貌,用划痕仪、表面粗糙轮廓仪测量了薄膜与基片之间的结合力和薄膜厚度.结果表明:脉冲激光沉积的薄膜为非晶态,膜层物质各元素之间的化学计量比与靶材成分一致;衬底未加热沉积的薄膜表而粗糙度较大,衬底温度为650℃ 时,薄膜表面平滑致密,粗糙度明显降低:非晶膜在1200℃密闭退火热处理3 min后淬火得到立方相ZrW2O8薄膜,退火后的薄膜品粒较大,同时 还出现一些沿晶界和晶内的裂纹缺陷.随着退火温度升高,薄膜与基片的结合力降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程晓农	江苏大学材料科学与工程学院	344	2629	24.0	32.0
2	刘红飞	江苏大学材料科学与工程学院	20	152	7.0	11.0
3	张志萍	江苏大学材料科学与工程学院	17	105	6.0	9.0