CuO/SiO2复合薄膜的微观结构和发光特性分析

• 作者: 孙钦军 李玉国 石锋
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频磁控共溅射法 CuO/SiO2复合薄膜 微观结构 光致发光特性
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 234-238
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3231字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1077.2009.00234

摘要

采用射频磁控共溅射法在硅衬底上沉积Cu/SiO2 复合薄膜,然后在N2保护下高温退火,再于空气中自然冷却氧化,制备出低维CuO纳米结构,并对其微观结构和光致发光进行研究.退火温度为1100℃时样品中主晶相为立方晶系的CuO(200)晶面,薄膜样品表面出现纳米线状结构,表面组分主要包括Cu、O元素,冷却氧化形成CuO/SiO2复合薄膜.该温度下退火后,光致发光谱中出现紫外光和紫光,这是由于复合薄膜中CuO的导带底到Cu空穴缺陷能级的跃迁导致的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	石锋	山东师范大学物理与电子科学学院	31	83	5.0	6.0
2	李玉国	山东师范大学物理与电子科学学院	44	186	7.0	11.0
3	孙钦军	山东师范大学物理与电子科学学院	7	32	3.0	5.0