2000 l/mm X射线镂空透射光栅的制备研究

• 作者: 刘明 吴坚 曹磊峰 朱效立 李海亮 谢常青
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光学制造 镂空透射光栅 电子束光刻 X射线光刻 微电镀
• 年，卷（期）: 2009,（10）
• 所属期刊栏目: 衍射与光栅
• 页码范围: 2650-2655
• 页数: 6页
• 分类号: TN405
• 字数: 3392字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS20092910.2650

摘要

在满足工艺要求的前提下,通过模拟光栅衍射,设计出镂空透射光栅模型,在此基础上将电子束和X射线光刻技术相结合,研究了制造2000 l/mm X射线镂空透射光栅的新工艺技术.首先利用电子束光刻和微电镀技术在镂空聚酰亚胺薄膜底衬上制备X射线母光栅掩模.然后利用X射线光刻和微电镀技术实现了光栅图形的复制,之后采用紫外光刻和微电镀技术制作加强筋结构,最后通过腐蚀体硅和等离子体刻蚀聚酰亚胺完成镂空透射光栅的制作.从此新的制造工艺结果上来看.制备的光栅栅线平滑,占空比合理,侧壁陡直,不同光栅之间一致性好,完全可以满足应用需求,充分表明了该制造技术是透射式X射线衍射光学元件制造的良好选择.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘明	中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室	207	1983	20.0	38.0
2	谢常青	中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室	50	258	9.0	12.0
3	李海亮	中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室	5	24	3.0	4.0
7	吴坚	北京工业大学激光工程研究院	14	40	3.0	6.0
8	朱效立	中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室	19	86	6.0	8.0