n型多孔硅的无光照制备方法

• 作者: 吴悦迪 朱骏 杨义军
• 来源期刊: 扬州大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: n型硅 电化学腐蚀 多孔硅 形貌
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 页码范围: 46-49
• 分类号: O613.72|O621.259.2
• 字数: 3227字
• 语种: 中文

摘要

以甲醇、双氧水和氢氟酸的混合液为电解质,在无光照条件下,用电化学腐蚀方法制备了n型多孔硅.通过场发式扫描电镜测试表明.由这个简单易行的方法制得的多孔硅,其表面孔洞的尺寸、密度及深度均一,孔洞呈近似矩形状,边缘光滑.随着电化学腐蚀的电流密度与腐蚀时间的乘积的增加,孔洞的尺寸和深度增加.在多孔硅的形成过程中,双氧水有助于在硅片中形成空穴,使腐蚀反应能够顺利进行.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱骏	扬州大学物理科学与技术学院	30	125	7.0	9.0
2	杨义军	扬州大学物理科学与技术学院	12	44	3.0	6.0
3	吴悦迪	扬州大学物理科学与技术学院	3	11	2.0	3.0