采用热丝化学气相沉积法制备SiCN薄膜的研究

• 作者: 屈亚东 张志勇 樊玎玎 贠江妮 赵武
• 来源期刊: 中南大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: SiCN薄膜 热丝化学气相沉积法(HFCVD) 原子力显微镜(AFM) X线衍射谱(XRD) X线光电子能谱(XPS)
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 156-160
• 分类号: TB43
• 字数: 3054字
• 语种: 中文

摘要

采用热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,在单晶Si衬底上制备SiCN薄膜.所采用的源气体为高纯的SiH4,CH4和N2.用原子力显微镜(AFM)、X线衍射谱(XRD)和X线光电子能谱(XPS)对样品进行表征与分析.研究结果表明:SiCN薄膜表面由许多粒径不均匀、聚集紧密的SiCN颗粒组成;薄膜虽然已经晶化,但晶化并不充分,存在着微晶和非晶成分,通过Jade软件拟合计算出薄膜的结晶度为48.72%;SiCN薄膜不是SiC和Si3N4的简单混合,薄膜中Si,C和N这3种元素之间存在多种结合态,主要的化学结合状态为Si-N,Si-N-C,C-N,N=C和N-Si-C键,但是,没有观察到Si-C键,说明所制备的薄膜形成了复杂的网络结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张志勇	西北大学信息科学与技术学院	98	759	13.0	22.0
2	贠江妮	西北大学信息科学与技术学院	11	54	5.0	7.0
3	赵武	西北大学信息科学与技术学院	29	269	8.0	15.0
4	屈亚东	西北大学信息科学与技术学院	1	1	1.0	1.0
5	樊玎玎	西北大学信息科学与技术学院	1	1	1.0	1.0