热丝化学气相沉积制备多晶硅薄膜的研究

• 作者: 刘艳红 刘韶华 吕博佳 温小琼
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 无机非金属材料 热丝化学气相沉积 多晶硅薄膜 晶态比 择优取向
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 23-26
• 页数: 4页
• 分类号: TB3
• 字数: 2980字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2006.05.007

摘要

采用热丝化学气相沉积技术制备了多晶硅薄膜.利用Raman、XRD、SEM等检测手段,系统研究了沉积气压、衬底温度、衬底与热丝间距离、衬底种类等实验参数对多晶硅薄膜晶态比、晶面择优取向、晶粒尺寸的影响.得出优化条件:沉积气压42 Pa,衬底温度250℃,衬底与热丝间距离48 mm,在玻璃衬底上制备出晶态比Xc>90%,择优取向为(111),横向晶粒尺寸为200～500 nm,纵向晶粒尺寸为30 nm左右的优质多晶硅薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	温小琼	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	6	30	4.0	5.0
2	刘艳红	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	14	73	6.0	8.0
3	刘韶华	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	2	14	2.0	2.0
4	吕博佳	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	1	11	1.0	1.0