反应磁控溅射法高速低温沉积锐钛矿相TiO_2薄膜的结构与光学性能

• 作者: 三宅正司 李铸国
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: TiO_2薄膜 磁控溅射 金属溅射模式 低温沉积 折射率
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 页码范围: 13-18
• 页数: 6页
• 分类号: TQ034
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1037.2009.00480

摘要

采用诱导型耦合等离子体辅助直流磁控溅射法在石英玻璃片上反应沉积TiO_2薄膜,通过X射线衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM)和紫外可见光谱(UV-Vis)对薄膜特性进行表征.结果表明,叠加诱导型耦合等离子体和局部富氧增加了等离子体的反应活性,在金属溅射模式和低于200℃的沉积条件下,制备了高质量的锐钛矿相TiO_2薄膜;该薄膜在550 nm处的折射率和消光系数分别为2.51和7.8×10~(-4)

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李铸国		67	513	13.0	20.0
2	三宅正司		1	0	0.0	0.0