镍-磷(Ni-P)电阻器的电阻变化的定量分析

• 作者: 蔡积庆
• 来源期刊: 印制电路信息
• 学科: 工学
• 关键词: 嵌入电阻器 化学镀Ni-P合金 电阻公差 薄膜电阻率公差 表面粗糙度 激光调整
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 集成元件PCB
• 页码范围: 32-36
• 页数: 5页
• 分类号: TN41
• 字数: 2650字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-0096.2010.01.008

摘要

在PCB上镀复形成电阻器的电阻陛镍-磷(Ni-P)合金可以制造嵌入电阻器.这样沉积的Ni-P合金电阻器具有不良的电阻公差,要求采用旨在满足规格的昂贵的激光修整进行调节.如果无须激光调整即可降低公差,则可降低电阻器成本.本文中,变化影响图形精度、镀层和薄膜电阻率的一组参数,以评价它们对化学镀Ni-P电阻器的电阻公差的影响.还表征了基材对薄膜电阻率变化的影响.还讨论了无须激光调整可以获得低公差的Ni-P电阻器的设计指南.