CVS技术在监控电镀铜槽液中的运用

• 作者: 傅琼利
• 来源期刊: 印制电路信息
• 学科: 工学
• 关键词: 有机添加剂 酸性镀铜液 循环电位剥离分析仪 电位
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 检验与测试
• 页码范围: 65-69
• 页数: 5页
• 分类号: TN41
• 字数: 4570字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-0096.2010.02.015

摘要

介绍CVS技术在监控电镀铜槽液中有机添加剂的运用.文章首先将对电镀铜中的有机添加剂和CVS技术的电化学原理进行解说,然后对CVS分析仪对有机添加剂浓度进行测量的原理和CVS中有机添加剂程序的创建进行介绍,最后简要介绍CVS在有机添加剂来料查验、镀液污染值、碳处理情况等监控方面的运用,希望此文章能够对CVS化验分析人员对此仪器有更深一步的了解.