基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
以酞菁铜为有源层,二氧化硅为绝缘层,钛/金作为电极,制作了三种不同沟道宽长比的有机薄膜晶体管器件.通过对这三种器件的电学特性进行对比,分析了不同沟道宽长比对器件电学性能的影响.结果表明,沟道宽长比对器件的迁移率影响很小,阈值电压随着宽长比的增大而减小,漏电流随沟道宽长比的增大而增大;当源漏极间电压在一定范围内时,开态电流也随沟道宽长比的增大而增大.
推荐文章
半导体薄膜晶体管的节能设计方法研究
半导体
薄膜晶体管
节能
电源回路
氧化亚锡薄膜晶体管的研究进展
p型材料
氧化亚锡
薄膜晶体管
微观调控机制
多晶硅薄膜晶体管kink效应的建模
多晶硅薄膜晶体管
kink效应
面电荷
倍增因子
低温增强型非晶铟镓锌氧薄膜晶体管特性研究
薄膜晶体管
非晶铟镓锌氧化物
输运特性
磁控溅射沉积
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 不同沟道宽长比有机薄膜晶体管性能的研究
来源期刊 半导体光电 学科 工学
关键词 沟道宽长比 有机薄膜晶体管 迁移率 阈值电压
年,卷(期) 2011,(1) 所属期刊栏目 光电器件
研究方向 页码范围 52-55,108
页数 分类号 TN321.5
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 吴志明 电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室 78 544 13.0 17.0
2 太惠玲 电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室 21 203 7.0 14.0
3 严剑飞 电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室 3 42 3.0 3.0
4 李娴 电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室 3 23 3.0 3.0
5 付嵩琦 电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室 1 7 1.0 1.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (8)
节点文献
引证文献  (7)
同被引文献  (6)
二级引证文献  (3)
1987(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1998(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1999(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2001(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2002(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2003(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2011(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(2)
  • 二级引证文献(0)
2011(2)
  • 引证文献(2)
  • 二级引证文献(0)
2012(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2013(2)
  • 引证文献(2)
  • 二级引证文献(0)
2016(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2017(2)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(2)
2020(2)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
沟道宽长比
有机薄膜晶体管
迁移率
阈值电压
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体光电
双月刊
1001-5868
50-1092/TN
大16开
重庆市南坪花园路14号44所内
1976
chi
出版文献量(篇)
4307
总下载数(次)
22
  • 期刊分类
  • 期刊(年)
  • 期刊(期)
  • 期刊推荐
论文1v1指导